等离子处理机不同频率激发等离子的区别
等离子体的密度与激发频率如下： nc=1.2425×108v2 其中nc为等离子体密度(cm-3)，v为激发频率(Hz)。常见的等离子体激发频率有三种：超声波等离子体激发频率为40kHz，射频等离子处理机等离子体激发频率为13.56MHz，微波等离子体激发频率为2.45GHz。 各种等离子体产生不同的自偏压。超声波等离子体的自偏压约为1000V，射频等离子处理机等离子体的自偏压约为250V，微波等离子体的自偏压非常低，只有几十伏，且三种等离子体的作用机理不同。 超声波等离子体的反应是物理反应，射频等离子处理机等离子体的反应是物理和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。由于超声波等离子体对被清洗表面产生的影响大，所以在实际的半导体清洗活化粘接生产应用中多采用射频等离子处理机等离子体清洗和微波等离子体清洗。
等离子处理设备在我国的发展前景
由于近年来，市场对品质的要求日益苛刻，同时国际上对环保的要求越来越严格，我国的很多高密度的清洗工业面临了严峻的挑战，可以说是一次全新的革命，面对 过的局势，作为代替品出现的一些氯代烃清洗剂、水基清洗剂和碳氢溶剂，由于分别具有毒性、水处理繁琐、清洗效果较差以及不易干燥、安全性较差等缺点阻碍了国内清洗工业的发展。 另外现在市场上出现的超声波处理设备也并不能达到改性的效果，只能清洗一些表面的可见物，因为种种在制程中的不良，从而衍生了等离子处理设备之类的高特技产品。也越来越多的工业使用等离子处理设备，通过等离子处理设备可以达到表面改性、清洗、提升产品性能等作用，大大的减少了产品在制程中所造成的不良率，从而提高产品品质、降低生产成本等等。 目前在国内，等离子处理设备已经为不少工业生产厂家带来很大的便利。相信在不久的将来，等离子处理设备会被越来越多的工业生产厂家所青睐，从而成为工业生产制造设备中的清洗专家。
