等离子处理设备能清除镀膜玻璃片表面脏污吗？
等离子处理英文叫（PlasmaCleaner）又称等离子处理设备，等离子表面改性设备,电浆清洁机,等离子表面处理机,等离子体表面处理设备,等离子蚀刻机,等离子清洗器,等离子清洗仪。电浆处理设备.等离子体材料表面改性处理设备，等离子体表面改性产品。广泛用于等离子清洗,刻蚀,等离子镀,等离子涂覆,等离子灰化和表面改性 等离子处理的优点： 1.环保技术：等离子体作用过程是气-固相干式反应,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。 2.广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理； 3.温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。 4.功能强：仅涉及高分子材料浅表面（10-1000A），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能； 5.低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。 6.全过程可控工艺：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行质量控制。 7.处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。
等离子处理机不同频率激发等离子的区别
等离子体的密度与激发频率如下： nc=1.2425×108v2 其中nc为等离子体密度(cm-3)，v为激发频率(Hz)。常见的等离子体激发频率有三种：超声波等离子体激发频率为40kHz，射频等离子处理机等离子体激发频率为13.56MHz，微波等离子体激发频率为2.45GHz。 各种等离子体产生不同的自偏压。超声波等离子体的自偏压约为1000V，射频等离子处理机等离子体的自偏压约为250V，微波等离子体的自偏压非常低，只有几十伏，且三种等离子体的作用机理不同。 超声波等离子体的反应是物理反应，射频等离子处理机等离子体的反应是物理和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。由于超声波等离子体对被清洗表面产生的影响大，所以在实际的半导体清洗活化粘接生产应用中多采用射频等离子处理机等离子体清洗和微波等离子体清洗。
