低温等离子设备的使用注意事项

在实验中当我们想要对各种材料的表面做清洗活化腐蚀沉积或者聚合等操作的时候，必不可少的就是一台低温等离子处理设备，而作为实验室经常使用的高精尖设备，如果使用低温等离子设备的操作不当很有可能导致设备损坏或者运行结果受到影响，所以今天就来说说低温等离子设备使用的注意事项。 ，低温等离子设备在运行的时候对于电源的要求是220V的交流电频率为50HZ的电源，应该在开启设备之前做好电源的连接和检查工作，设备运行之后应该发出的是平稳的运转声，而且通常会有绿色的指示灯常亮来显示设备正常运行，如果出现黄色故障灯亮起，则要停止运行进行排休检查。 第二，在使用低温等离子设备的时候，应该特别注意红色的警示灯，通常设备运行出现问题或者抖动频率过快的情况下红色灯会常亮，这个时候应该马上按下复位键观察设备，如果设备依然出现异常则应该停止设备的运行，然后进行故障的排查，以避免设备出现损坏。 第三，在使用低温等离子设备的时候要定期清洗，而清洗的时候必须要先断开电源，然后再打开真空仓和电控箱，而且注意按照说明书上要求的规范清洗，除此之外现在很多低温等离子设备的真空仓都是外置环形电级所以不容易出现腔内污染。 刚才提到的几点基本上是所有类型的低温等离子设备在使用时都应该注意的情况，而随着设备的种类日渐繁多，操作人员在使用前应该详细阅读并了解使用说明才行，很多低温等离子设备还需要操作人员受到上岗培训才行。而且随着很多低温等离子设备开始带有自洁功能，设备的日常保养也变得更加简答。

浅谈等离子处理设备工作需要用到的气体

等离子处理设备由于其自身的特点在很多产品生产的过程中都有一席用武之地。在等离子处理设备工作清清洗的过程中，需要配合着不同的气体，才能将等离子处理设备的清洗效果达到 。 按气体分成： 多使用的气体之一就是惰性气体氩气（Ar），真空腔清洗过程中配合氩气（Ar）往往可以有效得去除表面纳米级污染物。经常应用在引线键合，芯片粘接铜引线框架，PBGA等工艺中。 如果想增强腐蚀效果，就请通入氧气（O2）。通过配合氧气（O2）在真空腔清洗，可有效的去除有机污染物，比如光刻胶等。通入氧气（O2）比较多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工艺。 还有一些比较难去除的氧化物可利用氢气（H2）配合清洗，条件是要在密闭性非常好的真空情况下使用。还有一些特殊气体类似于四氟化碳（CF4），六氟化硫（SF6）等，蚀刻和去除有机物的效果会更加显著。但这些气体的使用前提是要有 耐腐蚀气路和腔体结构，另外自己要戴好防护罩和手套才能工作。 要说的一种常用气体就是氮气（N2）。这种气体主要是配合在线式等离子对材料表面活化和改性的应用。当然真空环境下也可以使用。氮气（N2）是提高材料表面侵润性的不二选择。