等离子处理设备的活化表面作用
等离子处理设备活化表面作用，物体表面必须具有良好的湿润性，才能够在涂漆、粘合、印刷或者压焊的时候与粘接材料很好的进行粘附附着。不仅仅含油和含脂的脏污会对湿润造成妨碍，很多材料的清洁表面也无法通过各种液体，或粘合剂和涂料进行充分的湿润。液体滴落。即使经过固化和干燥处理后，其也无法粘附于表面之上。原因在于，基材的表面能量较低。表面能量较低的材料能够湿润表面能量较高的材料，但是切勿颠倒。所添加液体的表面能量，也称之为表面张力，在任何情况下均必须低于基材的表面能量。 大多数塑料的表面能量很低，由于表面能量过低导致无法通过粘合剂和涂料进行湿润。原因在于非极性表面。液体分子无法找到其能够进行积聚的连接点。 等离子处理设备清洗物体的表面能量增高，从而被活化。期间，为所添加的液体建立了积聚点。通常用化学底漆、液态粘合促进剂进行活化。其往往具有高腐蚀性和环境危害性。一方面必须在进行后续加工前进行充分的通风，另一方面无法长时间保持活化状态。通过化学底漆也无法对诸如聚烯烃之类的非极性材料进行充分活化。 等离子处理设备活化表面作用，此外，可以在电弧电晕中进行活化。这是常压等离子处理的一种形式。但是，其仅可对平整或凸起的表面进行处理，处理时其会导入电弧之中。
等离子处理机不同频率激发等离子的区别
等离子体的密度与激发频率如下： nc=1.2425×108v2 其中nc为等离子体密度(cm-3)，v为激发频率(Hz)。常见的等离子体激发频率有三种：超声波等离子体激发频率为40kHz，射频等离子处理机等离子体激发频率为13.56MHz，微波等离子体激发频率为2.45GHz。 各种等离子体产生不同的自偏压。超声波等离子体的自偏压约为1000V，射频等离子处理机等离子体的自偏压约为250V，微波等离子体的自偏压非常低，只有几十伏，且三种等离子体的作用机理不同。 超声波等离子体的反应是物理反应，射频等离子处理机等离子体的反应是物理和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。由于超声波等离子体对被清洗表面产生的影响大，所以在实际的半导体清洗活化粘接生产应用中多采用射频等离子处理机等离子体清洗和微波等离子体清洗。
