在多晶硅的生产中，还会产生一定的废气和残液，目前我们的废气处理设备已经比较先进，对以前的处理技术进行了改进，已经达到了较高的水平。 多晶硅是太阳能和微电子产业的关键原材料，随着我国太阳能产业的快速发展，多晶硅的需求量也与日俱增。目前，多晶硅工艺技术 活跃。主要有西门子法、冶金法、等离子法、硅烷法、流化床法、熔盐电解法、无氯工艺技术等。西门子法是通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅。为了提高原料利用率，在原基础上采用闭环式生产工艺即改良西门子法。改良西门子工艺生产的多晶硅产能约占世界总产能的80%。 国内外对西门子法制备高纯多晶硅的研究较多。如张玉等人采用催化化学气相沉积法制备多晶硅薄膜;美国M.M.Dahl等人研究了多晶硅在流化床中的微观结构和颗粒生长。此外，多晶硅的生产技术还有碳热还原法、区域熔炼法等。碳热还原法是利用高纯碳还原二氧化硅制取多晶硅，区域熔炼法是利用金属定向凝固原理将金属级硅提纯到、太阳能级硅的。

（1）低温深度的反应：UV光氧催化设备可以在常温的条件下进行将空气、水和土壤当中的有机污染物完全氧化成没有毒害的物质。而在传统的高温焚烧的技术上面则需要在很高的温度下才将污染物摧毁，就算是用常规的催化氧化的方法也需要好几百度的高温。 （2）净化彻底：UV光氧催化设备可以把空气当中的有机污染物，完全氧化成没有毒害的物质，也不会产生二次的污染 （3）绿色能源：uv光氧催化设备主要利用了紫外线进行照射有机的废气，从而让有机废气发生氧化或者是裂解，并且紫外线灯管在反应过程当中还不会消耗。我们从能源角度来说，这一特征会让光催化技术更具有魅力。 （4）氧化性强：这个设备具有很强的氧化性特点，所以它对臭氧很难氧化的一些有机物都可以进行分解，因此对很难降解的有机物具有很好的意义，光氧催化设备的有效氧化剂是自由，OH的氧化性高于常见的臭氧、双氧水、次酸等。 （5）广谱性：只要化合物的化学键能低于800kJ/mol，UV光氧催化设备都能将其裂解，形成简单和稳定的小分子化合物。所以这种技术可以被广泛应用在有废气产生的行业，只需要废气成分里面的化学键能低过UV光子的能量，都可以将其处理和净化。此外UV光氧催化设备还具有杀菌和消毒的作用。 （6）寿命长：理论上，UV光氧催化设备的使用寿命是无限长。