关于等离子处理设备的8大应用

等离子处理设备也叫等离子表面处理机，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子处理设备就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。 1.表面清洗 在真空等离子腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。 2.表面活化 经过等离子表面处理机过后的物体，增强了表面能，亲水性，提高粘合度，附着力。 3.表面刻蚀 材料表面通过反应气体等离子被选择性地刻蚀，被刻蚀的材料转化为气相并被真空泵排出，处理后的材料微观比表面积增加并具良好亲水性。 4.纳米涂层 经过等离子处理设备的处理之后，等离子引导的聚合化作用形成纳米涂层。各类材料通过表面涂层，实现疏水性（疏水）、亲水性（亲水）、疏脂性（防脂）、疏油性（防油）。 5.PBC制造 这个其实也是涉及到等离子刻蚀的过程，等离子表面处理机通过对物体表面进行等离子轰击实现PBC去除表面胶质。PCB制造商用等离子处理设备的蚀刻系统进行去污和蚀刻来带走钻孔中的绝缘物， 终提高产品质量。 6.半导体/LED 等离子在半导体行业的应用是基于集成电路的各种元器件及连接线很精细，那么在制程过程中就容易出现灰尘，或者有机物等污染，极其容易造成晶片的损坏，使其短路，为了要排除这些制程过程中产生的问题，在后来的制程过程中导入了等离子表面处理机设备进行前处理，利用等离子表面处理机是为了更好的保护我们的产品，在不破坏晶圆表面的性能的情况下来很好的利用等离子设备进行去除表面有机物和杂质等。 在LED注环氧胶过程中，污染物会导致气泡的成泡率偏高，从而导致产品质量及使用寿命低下，所以，避免封胶过程中形成气泡同样是人们关注的问题。通过射频等离子清洗后，芯片与基板会更加紧密的和胶体相结合，气泡的形成将大大减少，同时也将显著提高散热率及光的出射率.将等离子处理设备应用到金属表面去油及清洁 7.TSP/OLED 这个涉及到的是等离子处理设备的清洗功能，TSP方面:触摸屏的主要工艺的清洗，提高OCA/OCR，压层，ACF，AR/AF涂层等工艺上的粘合力/涂层力，为去除气泡/异物，通过多种大气压等离子形态的运用，可以将各种玻璃，薄膜均匀的大气压等离子放电使表面无损坏进行处理。 8.真空等离子喷涂 由于真空等离子中有很高的能量密度,实际上能将具有稳定熔融相的所有粉状材料转化成为致密的、牢固附着的喷涂层,对喷涂层的质量起决定作用的是喷射粉粒在击中工件表面瞬间的熔化程度。真空等离子喷涂技术为现代化多功能涂复设备提高了效率。

低温等离子技术在环境治理中的应用

低温等离子技术在环境治理中的应用： 伴随着经济的发展，环境污染问题日益突出，各种环境污染形式层出不穷，严重危害着人类的健康和生存。治理环境问题是人类自身安全的迫切需要。近年来，世界范围内出现了许多治理环境问题的高新技术，如超声波、光催化氧化、等离子体、反渗透等，其中，低温等离子技术作为一种高效、低耗、高处理量、操作简便的新型环保技术，已成为近年来国内外研究的热点。 低温等离子技术 在超细粉生产、废气处理、冶金精炼、腐蚀和材料表面处理、臭氧生产等领域，低温等离子技术已广泛应用于工业领域，其中以低温等离子体处理环境治理应用于废气和废水中有机污染物的研究居多，但目前这方面的技术还没有成熟的工业化应用规模。 1、低温等离子体的定义和特性，等离子体是一种电离度大于0.1%，并且其正负电荷相等的电离化气体。电子、离子、中性原子、激发态原子、光子、自由基等组成，电子和正离子的电荷数相等，总体上表现为电中性，不同于物质的三态(固体、液体、气体)，是物质存在的第四种形式。 它的主要特点是： (1)在带电粒子之间没有净库仑力； (2)是一种优良的导电流体，利用这种特性可以产生磁流体发电； (3)无净磁力的带电粒子； (4)电离气体对温度有一定的影响。 一般认为，低温等离子设备按其体系的能量状态、温度和离子密度可分为高温等离子体和低温等离子体。前一类电离度接近1，各粒子温度基本相同，系统处于热力学不平衡状态，温度一般在5×104K以上，主要用于研究受控热核反应；而后一类粒子温度不同，电子温度远大于离子温度，系统处于热力学不平衡状态，宏观温度较低，一般气体放电产生的等离子体均属于这一类，它与现代工业生产密切相关。 2、低温等离子体降污机理，等离子表面处理器在等离子体化学反应过程中的能量转移，等离子体化学反应中的能量转移大致如下： (1)电场+电子→高能电子的组合； (2)高能电子+分子(或原子)→活性基团(受激原子、受激基团、游离基团)； (3)活性基+分子(原子)→生成物+热； (4)活性基+活性基→生成物+热。 由上述过程可以看出，电子从电场获取能量，而得到能量的分子或原子则被激发，并通过激发或电离将能量传递给分子或原子，同时有部分分子被电离，从而形成活性基；随后，这些活性基与分子或原子、活性基与活性基相互碰撞，产生稳定的产物和热。此外，卤素和氧的电子也可以亲和高能电子。