在多晶硅的生产中，还会产生一定的废气和残液，目前我们的废气处理设备已经比较先进，对以前的处理技术进行了改进，已经达到了较高的水平。 多晶硅是太阳能和微电子产业的关键原材料，随着我国太阳能产业的快速发展，多晶硅的需求量也与日俱增。目前，多晶硅工艺技术 活跃。主要有西门子法、冶金法、等离子法、硅烷法、流化床法、熔盐电解法、无氯工艺技术等。西门子法是通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅。为了提高原料利用率，在原基础上采用闭环式生产工艺即改良西门子法。改良西门子工艺生产的多晶硅产能约占世界总产能的80%。 国内外对西门子法制备高纯多晶硅的研究较多。如张玉等人采用催化化学气相沉积法制备多晶硅薄膜;美国M.M.Dahl等人研究了多晶硅在流化床中的微观结构和颗粒生长。此外，多晶硅的生产技术还有碳热还原法、区域熔炼法等。碳热还原法是利用高纯碳还原二氧化硅制取多晶硅，区域熔炼法是利用金属定向凝固原理将金属级硅提纯到、太阳能级硅的。

喷漆有机废气经集气罩收集起来，然后进入uv光解除臭设备，经紫外光催化处理后，再进入低温等离子净化设备处理， 经排气筒高空排放。 光催化反应区，253.7nm波段的紫外线首先对废气中污染物质的分子链进行破坏分解，将其大分子结构打碎变成小分子结构，185nm波段的紫外线使空气中的氧分子产生的游离态的氧，游离氧因正负电子不平衡需与氧分子结合，进而产生臭氧。从而提高后段低温等离子处理效果。 低温等离子体反应区，等离子通电后会形成一个1.5万伏的高压电场，废气在进入的时候被电离，分子键断裂，废气分子被分解成高能电子和小分子。氧气被电离成游离态的氧，游离氧所携带的正负电子不平衡，很容易与氧气结合形成臭氧。臭氧将打碎的恶臭气体分子氧化成CO2和H2O等无机物。 ZR系列uv光解除臭又称之为紫外光除臭设备，光电离子废气净化设备，光解催化氧化废气净化设备等。它是一种能高效快速去除挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇、苯等各种恶臭气体的环保设备。脱臭效果较好，脱臭效果大大超过国家颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）。 ZR系列uv光解除臭设备广泛应用于喷漆废气处理、油墨废气处理、塑胶废气处理、化工废气处理、制药废气处理、污水池臭气处理、鉰料废气处理、铸造废气处理等各种有污染源恶臭气体的脱臭净化。 等离子废气净化器又称为低温等离子废气净化器、等离子废气处理设备，等离子废气净化器是一种用应于有机废气处理的环保设备，具有阻力小，操作简单等特点，等离子废气处理设备广泛适用于各种低浓度的有机废气处理。