在多晶硅的生产中，还会产生一定的废气和残液，目前我们的废气处理设备已经比较先进，对以前的处理技术进行了改进，已经达到了较高的水平。 多晶硅是太阳能和微电子产业的关键原材料，随着我国太阳能产业的快速发展，多晶硅的需求量也与日俱增。目前，多晶硅工艺技术 活跃。主要有西门子法、冶金法、等离子法、硅烷法、流化床法、熔盐电解法、无氯工艺技术等。西门子法是通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅。为了提高原料利用率，在原基础上采用闭环式生产工艺即改良西门子法。改良西门子工艺生产的多晶硅产能约占世界总产能的80%。 国内外对西门子法制备高纯多晶硅的研究较多。如张玉等人采用催化化学气相沉积法制备多晶硅薄膜;美国M.M.Dahl等人研究了多晶硅在流化床中的微观结构和颗粒生长。此外，多晶硅的生产技术还有碳热还原法、区域熔炼法等。碳热还原法是利用高纯碳还原二氧化硅制取多晶硅，区域熔炼法是利用金属定向凝固原理将金属级硅提纯到、太阳能级硅的。

活性炭吸附：该技术能高效吸收苯、醇、酮、酯、汽油类等有机废气，适用于大风量低浓度的废气治理。该方法是利用活性炭本身高强度的吸附力，结合风机作用将有机废气分子吸附住，对苯、醇、酮、酯、汽油类等有机溶剂的废气有很好的吸附作用。 性能特点： 1.吸附效率高达90%，吸附容量大，适用面广； 2.维护方便，无需过多人力投入要求； 3.比表面积大，良好的选择性吸附，能同时处理多种混合废气； 4.活性炭具有来源广泛价格低廉等特点； 5.操作简易、安全。 性能特点： 1.采用填料塔对废气进行净化，适合于连续和间歇排放废气的治理； 2.工艺简单，管理方便、操作及维修相当方便简洁，不会对车间的生产造成任何影响； 3.适用范围广，可同时净化多种污染物； 4.压降较低，操作弹性大，且具有很好的除雾性能； 5.塔体可根据实际情况采用PP/玻璃钢等材料制作； 6.填料采用高效、低阻的鲍尔环，可彻底地去除气体中的异味、有害物质等； 7.工业废气处理设计周密、层层净化过滤废气，效果较好，去除率可 可达99%以上。 有机废气催化燃烧处理：该技术是在催化剂的作用下，将VOCs在200~400℃的低温条件下分解为CO2和H2O，是净化碳氢化合物废气、消除恶臭的有效手段之一。该技术也可应用于活性炭吸附浓缩废气催化燃烧系统，用于替代废气催化燃烧和加热器部分。 性能特点： 1.去除效率高，无二次污染；。 2.适用范围广泛，可应对多工况条件； 3.转化效率稳定、气流分布合理，保障防爆措施的有效性； 4.起燃温度低、无焰燃烧、降低明火，节省能源的同时又大大提高了安全性。