制药工业是国家环境治理重点监测的12个行业之一。首先因为药品生产过程中原材料投入量大、产出比小，生产过程大部分物质 终以废弃物形式废弃，污染问题突出；其次是工艺过程中产生的废气、废水、废渣等是主要的环境污染源；其次，制药行业产品更新快，生产规模小，种类繁多.生产过程复杂，治污难度较大目前仅化学原料药就有近2000种.化学药品制剂40余种剂型达4000多个品种；我国中成药的品种也达到5000多种。制药工业生产中产生的废气的控制方法主要是利用物理性质和化学性质（如溶解度、吸附饱和度、露点、选择性化学反应等）的不借助分子间和分子内的作用力来完成的。 制药工业废气处理方案有以下四种： 方案一：物理法物理法治理废气时.不改变废气物质的化学性质只是用一种物质将它的臭味掩蔽和稀释，或者将废气物质由气相转移至液相或固相。常见方法有掩蔽法、稀释法、冷凝法和吸附法等。 方案二：化学法化学法楚使用另外一种物质与废气物质进行化学反应，改变废气物质的化学结构.使之转变为无毒害的物质、无臭物质或臭味较低的物质。常见方法有燃烧法、氧化法和化学吸收法（酸碱中和法）等。 方案三：生物法生物法净化无机或有机废气足在已成熟的采用微生物处理废水的基础上发M起来的。生物净化实质上是一种氧化分解过程：附着在多孔、潮湿介质上的活性微生物以废气中无机或有机绀分作为其生命活动的能源或养分.转化为简单的无机物或细胞组成物质。 方案四：物理化学法物理化学法主要是针对R标废气的特性，采用一系列物理和化学处理相结合的方法*运用些特殊处理手段和非常规处理方法对其进行深度处理，以达到高去除率和无害化的R的。目前应用的简单物理化学方法主要有酸碱吸收、化学吸附、氧化法和催化燃烧等几种方法有机结合的处理方法。

喷漆有机废气经集气罩收集起来，然后进入uv光解除臭设备，经紫外光催化处理后，再进入低温等离子净化设备处理， 经排气筒高空排放。 光催化反应区，253.7nm波段的紫外线首先对废气中污染物质的分子链进行破坏分解，将其大分子结构打碎变成小分子结构，185nm波段的紫外线使空气中的氧分子产生的游离态的氧，游离氧因正负电子不平衡需与氧分子结合，进而产生臭氧。从而提高后段低温等离子处理效果。 低温等离子体反应区，等离子通电后会形成一个1.5万伏的高压电场，废气在进入的时候被电离，分子键断裂，废气分子被分解成高能电子和小分子。氧气被电离成游离态的氧，游离氧所携带的正负电子不平衡，很容易与氧气结合形成臭氧。臭氧将打碎的恶臭气体分子氧化成CO2和H2O等无机物。 ZR系列uv光解除臭又称之为紫外光除臭设备，光电离子废气净化设备，光解催化氧化废气净化设备等。它是一种能高效快速去除挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇、苯等各种恶臭气体的环保设备。脱臭效果较好，脱臭效果大大超过国家颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）。 ZR系列uv光解除臭设备广泛应用于喷漆废气处理、油墨废气处理、塑胶废气处理、化工废气处理、制药废气处理、污水池臭气处理、鉰料废气处理、铸造废气处理等各种有污染源恶臭气体的脱臭净化。 等离子废气净化器又称为低温等离子废气净化器、等离子废气处理设备，等离子废气净化器是一种用应于有机废气处理的环保设备，具有阻力小，操作简单等特点，等离子废气处理设备广泛适用于各种低浓度的有机废气处理。